技术规格 |
参数 |
主要用途 |
金属薄膜电极 |
真空泵组 |
标配直流电机静音油泵+分子泵组/ 可选配干泵 |
泵组抽速 |
>8 m3/h 机械泵+250 L/S 分子泵 |
极限真空 |
<3.0E-4 Pa |
工作气压 |
典型值:0.3-1Pa |
抽空时间 |
<15 Min (<3.0E-3 Pa,洁净腔体) |
真空测量 |
测量范围大气压到10E-5 Pa,进口品牌复合真空计 |
气体控制 |
两路 MFC气体质量流量控制器(50或100 SCCM Ar/N2) |
腔室尺寸 |
~Ø 300 *180 mm |
磁控靶源 |
靶材尺寸 Ø 50.8*0.1-5 mm /3只( 选配靶材尺寸 Ø 76.2 *0.1-5 mm /2只) 可实现单靶溅射/双靶共溅射/交替溅射 带独立挡板,可溅射贵金属Au/Pt等, 或金属Al、Cr、Ag、Ti等金属(通Ar气) |
溅射电源 |
恒功率磁控DC溅射电源 Max. 300W (可选国产或进口品牌) 偏压DC溅射电源 0-400V电源(选配) |
样品台 |
6英寸样品台。系统采用多轴伺服电机控制系统+磁流体密封+波纹管模组,可以实现样品台自动上下升降(可调范围不低于40mm),以及样品台的旋转(速度 0-60 RPM可调) |
等离子清洗 |
可选配RF射频等离子清洗源(50W) |
工控模式 |
提供客户端工艺菜单编辑软件。可以实现工艺菜单灵活编辑(可以在工 艺编辑软件进行模块化的工艺菜单编辑)+工艺菜单自动控制执行模式(载入工艺菜单,支持实现无人值守或远程网络控制镀膜) |
操作方式 |
触摸屏控制/电脑远程网络控制 |
重量尺寸 |
~400 Kg / 600 mm宽*1400 mm深*1000 mm高 |
输入电源 |
220V AC,50/60Hz 接地三脚插头 |
输入功耗 |
< 3000 W |
冷却方式 |
标配水冷机 |