CN
RPS50EM 远程等离子体清洗源
电镜腔室大扫除 / 预抽室日常清洗场景
1ICP-RF技术,等离子体更温和
2 低热损伤,低离子轰击损伤
3 全自动触摸屏控制,操作简便
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产品介绍
Product Introduction
RPS50EM是一款远程等离子体清洗源,可集成于SEM或FIB腔体,通过电离气体产 生的等离子体对腔室和样品碳氢化合物进行高效清洗,不仅可以解决成像过程中的积碳 黑框现象,且可提高成像分辨率及衬度,缩短腔室抽真空时间。

RF-ICP技术使得等离子 体更温和,可大幅降低清洗过程中的热损伤和等离子体轰击损伤。
基本参数
Product Specification

技术规格

参数

工作气压

 0.5-40Pa

射频电源

 13.56MHz射频电源,射频功率10-50W可调

气体模块

 标配MFC 100sccm流量计(N2)/1只

操作方式

 触摸屏控制,控制系统提供互锁保护功能/提供串口控制指令,可供后续开发编程

尺寸

 250mm长*350mm宽*110 mm高(控制器)

 178.5mm长*138.5mm宽*99.5mm高(RF离子源)

重量

 ~9kg

连接方式

 KF40法兰接口

进气系统

 Ø6mm进气口

电源

 100-220V AC,50/60Hz 接地三脚插头

功耗

 <200 W