Product Introduction
超高分辨场发射 SEM 放大倍率可达到 20-30 万倍量级，因此它对喷镀金属的颗粒度提出了更严苛细腻的要求。
普通的 Pt 或 Pt-Pd 合金方案已经无法很好满足要求，更高熔点的 Ir 靶又太贵，因此 W、Cr 这些颗粒更小的高熔点金属备受青睐，但 W、Cr 因其活泼的化学特性需要更高的真空度去喷镀。
ISC150T是一款高真空离子溅射仪，采用隔膜泵和分子泵组合， 可以产生一个10-3Pa量级高真空，既可溅射Au、Pt或Pd等贵金属 靶材，亦可溅射W、Cr和C等易氧化靶材，特别适用于追求高分 辨率、高放大倍率场发射扫描电镜制样镀膜用途。
Product Specification
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技术规格 |
参数 |
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真空泵组 |
无油隔膜泵+分子泵 |
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抽速 |
>0.7m3/h隔膜泵+60 L/S 分子泵 |
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极限真空 |
< 1E-3 Pa |
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工作气压 |
0.3-1Pa |
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真空规 |
进口品牌皮拉尼真空计 |
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气体控制 |
MFC气体质量流量控制器（50 SCCM Ar） |
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腔体 |
标配Ø150 *120mm石英玻璃腔体 |
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磁控溅射靶 |
靶材尺寸 Ø 50*0.1-2 mm （建议厚度≥0.2 mm）/ 带手动挡板 可溅射贵金属Au、Pt等，也可溅射Cr、W、Ag等常规金属（通Ar气） |
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溅射电源 |
恒功率磁控DC溅射电源 Max. 30W ，Max. 100 mA，0-800V |
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进气口 |
Ø 8mm气管 |
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操作方式 |
触摸屏控制 |
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重量尺寸 |
~30 Kg / 480 mm宽*385 mm深*447 mm高 |
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CN
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