CN
C10 高真空自动镀碳仪
适用于EBSD、EDS及EPMA分析、FIB加工以及TEM成像分析等镀碳场景
1自动进碳绳:操作更省心
2 无油高真空泵组:喷镀更稳定
3 倾斜偏置式碳源设计:样品表面不掉渣
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产品介绍
Product Introduction
C10是一款基于电阻蒸发原理的高真空镀碳仪,采用内置涡轮分子泵和无油隔膜泵联用,可建立洁净的高真空环境(<5×10⁻²Pa),结合倾斜偏置式碳源和自动旋转样品台设计,可在样品表面沉积一层均匀致密的碳膜,从而有效抑制荷电效应,同时避免引入干扰元素,确保成分分析准确性。特别适用于SEM(如EDS、EBSD及EPMA分析)、FIB加工以及TEM样品所需碳镀层的制备。

 

基本参数
Product Specification

技术规格

参数

适用场景

 SEM(如EDS、EBSD及EPMA分析)、FIB加工以及TEM样品所需碳镀层制备

真空泵组

 涡轮分子泵+无油隔膜泵

抽速

 分子泵:≥9  L/s;隔膜泵:≥0.7 m3/h

极限真空

  <5×10-2  Pa

工作气压

  ≤0.5 Pa

泵组启动时间

  <5 min

真空计

 复合高真空计(测量范围:1×10-3 Pa-标准大气压)

腔室尺寸

  ~110mm长 ×190mm深 ×110mm高

样品台

  Ø80 mm旋转样品台,转速:60 RPM

碳源

  Ø0.8 mm碳绳,自动进碳绳

蒸发电源

  脉冲蒸发,恒电流直流电源,输出: Max.400 W, Max.20 A,Max.20 V

排气口

  Ø8 mm快插接口,标配消音过滤器

操作方式

  触摸屏控制,控制系统提供互锁保护功能

尺寸

  300 mm长×460 mm深×305 mm高

重量

  ~28 kg

输入电源

  100-240 V AC  ,50/60 Hz ,三脚接地插头

功耗

  <500 W

质保

  一年

备注

  以上所列技术规格与参数更新恕不另行通知,如有疑问请联系我们

应用案例
Application cases
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